Oleh kerana - pendedahan kepada air atau kelembapan udara yang tinggi semasa penyimpanan, serta kandungan tinggi aluminium, kalsium dan kekotoran fosforus dalam ferrosilicon, selepas beberapa waktu fenomena yang dipanggil "menumpahkan" berlaku. Ini disertai dengan pembebasan gas toksik fosfin (PH3) dan hidrogen (ASH3), dan dalam kes -kes yang teruk juga boleh menyebabkan kebakaran.
Tahap aluminium, fosforus dan kalsium yang tidak betul dalam ferrosilicon boleh menyumbang kepada penumpahan ferrosilicon. Dengan peningkatan serentak dalam kandungan aluminium dan fosforus kepada nilai tertentu, jenis ferrosilicon ini terdedah kepada penumpahan udara lembap. Sesetengah sumber menunjukkan bahawa ferrosilicon yang mengandungi kurang daripada 0.04% fosforus dan kurang daripada 3% aluminium tidak tertakluk kepada penumpahan.
Pada mulanya dipercayai bahawa ferrosilicon dengan kandungan silikon yang rendah lebih mudah untuk menumpahkan. Ini mungkin disebabkan oleh fakta bahawa pengembangan volumetrik silikon dan besi yang bergantung kepada suhu, seperti Fesi dan Fesi2 dalam ferrosilicon, membawa kepada sputteringnya. Ferrosilicon yang mengandungi aluminium bentuk aluminium hidroksida dan gas apabila bersentuhan dengan air, yang merupakan sebab utama ferrosilicon atomization.
Kadar penyejukan selepas menuangkan juga mempengaruhi tahap pengisaran ferrosilicon. Sekiranya kadar penyejukan cepat, pemisahan silikon kecil dan pulverization tidak mungkin; Sekiranya kadar penyejukan perlahan, pemisahan silikon tinggi dan pulverization mungkin. Begitu juga, jika ketebalan ingot ferrosilicon adalah besar, maka pulverization mungkin berlaku, dan jika ia kecil, maka pulverization tidak mungkin.
Untuk mengelakkan pulverization ferrosilicon, anda perlu memberi perhatian kepada tiga mata berikut:
1. Ketebalan ingot ferrosilicon tidak boleh terlalu besar untuk mengurangkan pemisahan silikon dalam ferrosilicon.
2. Strictly mengawal kandungan silikon ferrosilicon dan tidak membenarkannya menjadi terlalu rendah. Kawal kandungan aluminium, fosforus dan kalsium ferrosilicon dengan menggunakan bahan mentah yang terbaik, terutamanya tidak menggunakan kok tinggi untuk mengurangkan kandungan aluminium dan fosforus, dan meminimumkan penambahan kapur semasa peleburan untuk mengurangkan kandungan kalsium ferrosilicon.